Περιγραφή

Όνομα προϊόντος: Οξείδιο του σκανδίου υψηλής καθαρότητας

Ψευδώνυμο προϊόντος: τριοξείδιο σκανδίου, σκόνη οξειδίου του σκανδίου, τυπική ουσία οξειδίου του σκανδίου, εξαιρετικά λεπτό οξείδιο σκανδίου

Χημικός τύπος: Sc2O3

Αριθμός CAS: 12060-08-1

Αριθμός EINECS: 235-042-0

Καθαρότητα: 5N/6N

Εμφάνιση: λευκή σκόνη (η μορφολογία και η κατανομή μεγέθους σωματιδίων μπορούν να προσαρμοστούν σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη)

Μοριακό βάρος: 137,91

Σημείο τήξης: 2403 βαθμοί

Σημείο βρασμού: N/A

Πυκνότητα: 3.864 g/cm3

Διαλυτότητα: διαλυτό σε ζεστό οξύ, αδιάλυτο στο νερό.

Πρότυπα παραγωγής: GB∕T13219-2018

Συσκευασία: συσκευασμένο σε σιδερένιο τύμπανο, επενδεδυμένο με μονές/διπλές πλαστικές σακούλες και γεμάτο με αργό για προστασία ή σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη

Τεχνικά δεδομένα οξειδίου του σκανδίου υψηλής καθαρότητας:

Τεχνικοί δείκτες τυπικής ουσίας οξειδίου του σκανδίου 5Ν(το περιεχόμενο ακαθαρσίας μπορεί να προσαρμοστεί σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη):

Sc2O3/REO	Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,999%	Συνολικές ακαθαρσίες RE	Λιγότερο ή ίσο με 10 ug/g
Fe	Μικρότερο ή ίσο με 0,5 μg/g	Co	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Σι	Λιγότερο ή ίσο με 2,5 ug/g	Cr	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Ca	Μικρότερο ή ίσο με 3.0 ug/g	V	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Mg	Μικρότερο από ή ίσο με 0.2 μg/g	Zn	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Cu	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g	Mn	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g

Τεχνικοί δείκτες οξειδίου του σκανδίου 6Ν εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας(το περιεχόμενο ακαθαρσίας μπορεί να προσαρμοστεί σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη):

Sc2O3/REO	Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,9999%	Συνολικές ακαθαρσίες RE	Μικρότερο ή ίσο με 1.0 ug/g
Fe	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g	Co	Μικρότερο ή ίσο με 0.001 ug/g
Ni	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g	Cr	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g
Ca	Μικρότερο ή ίσο με 0,05 μg/g	V	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g
Mg	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g	Zn	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g
Cu	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g	Mn	Μικρότερο από ή ίσο με 0.01 ug/g

Εξαιρετικά λεπτή σκόνη οξειδίου του σκανδίου(το περιεχόμενο ακαθαρσίας, η μορφολογία και η κατανομή μεγέθους σωματιδίων μπορούν να προσαρμοστούν σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη):

Sc2O3/REO	Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,9%	Συνολικές ακαθαρσίες RE	Λιγότερο ή ίσο με 0.1%
D50	Λιγότερο ή ίσο με 500nm	L.O.I	Λιγότερο ή ίσο με 0.1%
Fe	Μικρότερο ή ίσο με 0,5 μg/g	Co	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Σι	Λιγότερο ή ίσο με 3,5 ug/g	Cr	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Ca	Λιγότερο ή ίσο με 4,5 ug/g	V	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Mg	Μικρότερο από ή ίσο με 0.2 μg/g	Zn	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g
Cu	Μικρότερο από ή ίσο με 0.2 μg/g	Mn	Μικρότερο ή ίσο με 0.1 μg/g

Μέθοδος παρασκευής οξειδίου του σκανδίου:

Μετά από χρόνια έρευνας και πρακτικής παραγωγής τεχνολογίας παραγωγής και εξοπλισμού, υπάρχουν οι ακόλουθες μέθοδοι εξαγωγής Sc2O3 από πρώτες ύλες που περιέχουν σκάνδιο:

1. Μέθοδος εκχύλισης. Χρησιμοποιείται ευρέως στην παραγωγή και έχει τα χαρακτηριστικά μεγάλης παραγωγής, καλής ποιότητας, υψηλού ποσοστού ανάκτησης, χαμηλού κόστους και συνεχούς λειτουργίας στην παραγωγή.

2. Μέθοδος ανταλλαγής ιόντων. Χρησιμοποιείται επίσης συχνά στην παραγωγή. Έχει τα χαρακτηριστικά μικρής παραγωγής, υψηλής καθαρότητας, χαμηλής απόδοσης, υψηλού κόστους και μεγάλου κύκλου παραγωγής.

3. Μέθοδος χρωματογραφίας ρητίνης εκχύλισης. Έχει τα χαρακτηριστικά σύντομου κύκλου παραγωγής, υψηλής καθαρότητας, υψηλής απόδοσης και χαμηλού κόστους.

4. Μέθοδος εκχύλισης υγρού φιλμ. Είναι μια νέα τεχνολογία διαχωρισμού που συνδυάζει διαχωρισμό μεμβράνης και εκχύλιση υγρού-υγρού. Αλλά δεν υπάρχει ακόμη πρακτική παραγωγής. Κάποιος κάποτε χρησιμοποίησε μια υγρή μεμβράνη γαλακτώματος για να εξάγει Sc από 60 mg/L και το Sc θα μπορούσε να εμπλουτιστεί στα 1400 mg/L μέσω εκχύλισης ενός σταδίου. Από την άποψη της εξαγωγής Sc2O3 στην Κίνα για πολλά χρόνια, οι δύο πρώτες διαδικασίες χρησιμοποιούνται σχεδόν.

Το οξείδιο του σκανδίου χρησιμοποιεί:

1. Οπτικά υλικά: Το οξείδιο του σκανδίου έχει υψηλό δείκτη διάθλασης και διαφάνεια, επομένως μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την κατασκευή οπτοηλεκτρονικών εξαρτημάτων, όπως υποστρώματα ηλιακών κυττάρων, υποστρώματα LED, οπτικές ίνες κ.λπ.

2. Υλικό ημιαγωγών: Το οξείδιο του σκανδίου είναι ένα ημιαγωγικό υλικό με ρυθμιζόμενες ηλεκτρικές ιδιότητες και μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την κατασκευή τρανζίστορ εφέ πεδίου, συσκευές αποθήκευσης, αισθητήρες κ.λπ.

3. Κεραμικά υλικά: Το οξείδιο του σκανδίου μπορεί να συνδυαστεί με άλλα οξείδια μετάλλων (όπως αλουμίνα, ζιρκόνιο) για να σχηματίσει κεραμικά υλικά, τα οποία χρησιμοποιούνται για την κατασκευή κεραμικών, κεραμικών λεπίδων κ.λπ.

4. Χρωστική ουσία: Το οξείδιο του σκανδίου μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως χρωστική ουσία διαφόρων χρωμάτων και χρησιμοποιείται ευρέως σε επιστρώσεις, χρώματα, πλαστικά και άλλα πεδία.

Το Ερευνητικό Ινστιτούτο Μεταλλικών Υλικών Σπάνιων Γών Χουνάν (HNRE) διεξάγει έρευνα για τη βιομηχανική τεχνολογία παρασκευής οξειδίου του σκανδίου υψηλής καθαρότητας από τη δεκαετία του 1980. Επί του παρόντος, μπορούμε να παράγουμε σταθερά στρατιωτικό λέιζερ κρυσταλλικής ποιότητας οξείδιο του σκανδίου με καθαρότητα μεγαλύτερη από 99,999% σε παρτίδες. Μεταξύ αυτών, το Sc2O3 που εξάγεται από σκωρία βολφραμίου και απόβλητο οξύ διοξειδίου του τιτανίου έχει υποστεί βαθιά επεξεργασία με ανεξάρτητη διαδικασία έρευνας και ανάπτυξης και η καθαρότητά του έχει φτάσει το 99,9999%, το οποίο βρίσκεται στο κορυφαίο επίπεδο στον κόσμο και απολαμβάνει τη φήμη του «βασιλιά του σκάνδαλο στον κόσμο». Το έργο "Ανάπτυξη σκανδίου υψηλής καθαρότητας" του HNRE κέρδισε το τρίτο βραβείο του Εθνικού Βραβείου Προόδου Επιστήμης και Τεχνολογίας και προήδρευσε της σύνταξης του εθνικού προτύπου για το οξείδιο του σκανδίου GB/T 13219-2018.

Δημοφιλείς Ετικέτες: Οξείδιο του σκανδίου υψηλής καθαρότητας, Κίνα κατασκευαστές οξειδίου του σκανδίου υψηλής καθαρότητας, προμηθευτές